成膜方法和成膜装置、自发光元件的制造方法和制造装置

　　申请号/专利号： 200510097106

　　在利用设有防止二次电子等到达被成膜面的磁场的电子束蒸镀而形成金属薄膜时，使所形成的金属薄膜的带电状态处于合适状态。一种通过电子束蒸镀在基板（１）的被成膜面（１ａ）上形成金属薄膜的成膜装置，利用电子束发生器（４）向收容在成膜源（２）内的金属材料（３）照射电子束ＥＢ并使其熔化，所产生的金属蒸气蒸镀在基板（１）的被成膜面（１ａ）上，形成金属薄膜。具有：磁场形成单元（５（磁铁５Ａ、５Ｂ）），在被成膜面（１ａ）和成膜源（２）之间形成与被成膜面（１ａ）平行的磁场Ｍ，以防止由于向成膜源（２）照射电子束（５）而从成膜源（２）朝向被成膜面（１ａ）的负电荷ＥＳ；电荷监视单元（６），监视被成膜面（１ａ）周边的正电荷；电荷调整单元（负电荷产生单元７或磁场调整单元８），根据电荷监视单元（６）的监视结果，调整被成膜面上形成的金属薄膜的电荷状态。